Аннотация:
Рассмотрена краевая задача для сингулярно возмущенного уравнения реакция-адвекция-диффузия в случае малой нелинейной адвекции и негладкой реакции, возникающая в дрейфо-диффузионной модели полупроводника. Ключевой особенностью исследуемой задачи является разрыв производной реактивного слагаемого относительно пространственной координаты в некоторой заранее известной точке, лежащей внутри рассматриваемого интервала. С помощью асимптотического метода дифференциальных неравенств показано, что у поставленной задачи могут сосуществовать несколько решений, обладающих в малой окрестности точки разрыва внутренним переходным слоем. Каждое из этих решений может быть как асимптотически устойчивым по Ляпунову, так и неустойчивым, для обоих этих случаев выявлены достаточные условия. Из результатов асимптотического исследования следует, что при условии заданного внешнего тока в полупроводнике c N-образной зависимостью скорости дрейфа от напряженности электрического поля в малой окрестности некоторой его внутренней точки могут сосуществовать два соседствующих стационарных обедненных электронами слоя, если в этой точке равновесная концентрация электронов является недостаточно гладкой функцией пространственной координаты.
Ключевые слова:
сингулярно возмущенные эллиптические задачи, уравнения реакция-адвекция-диффузия,
внутренние переходные слои, метод дифференциальных неравенств, негладкий источник,
обедненный электронами слой, GaAs, N-образная вольт-амперная характеристика.
Известно, что во многих системах, имеющих два устойчивых положения равновесия и описываемых сингулярно возмущенными уравнениями типа реакция-адвекция-диффузия, неоднородности коэффициентов уравнения определяют положение внутренних резких переходных слоев. Причиной существования таких слоев в малой окрестности некоторой точки может быть выполнение в этой точке условия баланса реакции (см., например, [1], [2]), адвекции [3], реакции и адвекции [4], разрыв коэффициентов по пространственной координате (как конечный [5], так и слабый [6]) или другие условия, налагаемые на неоднородные коэффициенты (см., например, [7]). Актуальность таких уравнений вызвана большим количеством приложений (см., например, работы [5], [6], [8] и приведенные в них ссылки). Асимптотический анализ этих уравнений является необходимым этапом их исследования, поскольку позволяет выявить условия на исходные данные, при которых существуют решения с внутренними переходными слоями. Эти решения называют контрастными структурами.
Настоящая работа продолжает цикл работ [9], [5], [6], [8], в которых исследуются уравнения с разрывными коэффициентами, и посвящена исследованию одномерного уравнения типа реакция-адвекция-диффузия с малой гладкой адвекцией и негладкой по пространственной координате реакцией. Целью работы являются построение асимптотики, доказательство существования и исследование устойчивости стационарных решений с построенной асимптотикой, обладающих внутренними переходными слоями, которые образуются вблизи точки разрыва производной реактивного слагаемого по пространственной координате. Для построения асимптотики используется метод Васильевой [10], для обоснования существования решения – асимптотический метод дифференциальных неравенств [11] и метод сшивания [12], [13], для исследования устойчивости – метод сжимающих барьеров [14] и метод, основанный на следствии из теоремы Крейна–Рутмана [15], [16]. В настоящей работе доказано, что у поставленной задачи при определенных условиях могут сосуществовать несколько решений, обладающих в малой окрестности точки разрыва внутренним переходным слоем, проходящим от нижнего положения равновесия к верхнему. Выявлены достаточные условия, определяющие либо асимптотическую устойчивость по Ляпунову, либо неустойчивость каждого такого решения (см. теоремы 1, 2).
Поставленная ниже задача находит свое прямое применение в одномерной дрейфо-диффузионной модели полупроводника, обладающего N-образной зависимостью скорости дрейфа от напряженности электрического поля (см. [17], п. 3.2). Из результатов асимптотического исследования следует, что при условии заданного внешнего тока в малой окрестности некоторой внутренней точки полупроводника могут сосуществовать два соседствующих стационарных обедненных электронами слоя, если в этой точке равновесная концентрация электронов является недостаточно гладкой функцией пространственной координаты (см. п. 4.1). При этом один из слоев является асимптотически устойчивым по Ляпунову (т. е. к нему “притягиваются” подвижные слои, попавшие в его область притяжения), а второй – неустойчивым (подвижные слои “удаляются” от него). Полученный результат можно интерпретировать как способ управления такими подвижными слоями в полупроводниках.
Рассмотрим сингулярно возмущенную стационарную краевую задачу с граничными условиями 2-го рода
где x0∈(−1,1) – заданная координата, Iu – область значений функции u(x,ε). Пусть также f(±)(u,x,ε) – достаточно гладкие функции в соответствующих им областях определения, причем
Отметим, что последнее условие не исключает случая, когда I(x)=0 в других точках отрезка [−1,1], например случая тождественного равенства I(x)≡0, x∈[−1,1] (см. пример в п. 4.2). Как показано ниже, условие 3 выделяет случай баланса реакции относительно уровня переходного слоя p.
2. Асимптотическое разложение решения вида контрастной структуры
2.1. Асимптотика решения
Для построения формальной асимптотики задача (1) разбивается на две. Слева от переходного слоя рассматривается задача
Далее для функций асимптотики на отрезке [−1,x0] используем обозначение (−), на отрезке [x0,1] – обозначение (+), а символ (±) пишем, подразумевая функции как для левой, так и для правой частей асимптотики. Построим асимптотику в виде ряда по степеням ε, не предполагая разложенной в такой ряд функцию уровня переходного слоя p(ε):
U(±)(x,ε)=ˉu(±)(x,ε)+Q(±)(τ,ε)+Π(±)(ξ,ε),
где регулярная часть
ˉu(±)(x,ε)=ˉu(±)0(x)+εˉu(±)1(x)+⋯+εnˉu(±)n(x)+⋯,
пограничная часть в окрестности x=−1 и в окрестности x=1
Для определенности рассматриваем переход от корня ϕ(−) к корню ϕ(+). Метод пограничных функций (см. [10]) приводит к последовательности задач для определения коэффициентов асимптотических рядов (2), из которых, в частности, получим ˉu(−)0(x)=ϕ(−)(x), ˉu(+)0(x)=ϕ(+)(x). Функции ˉu(±)i(x), i=1,2,3,…, а также пограничные функции Π(±)i(ξ) строятся стандартным образом, и мы это построение в работе рассматривать не будем.
Остановимся подробно на построении функций внутреннего переходного слоя. Члены Q(±)0(τ,p(ε)) определяются из следующих задач:
где тильда над функцией и звездочка справа от нее означают, что ее значение берется при аргументе (\bar{u}_0^{(\pm)}(x_0)+Q_0(\tau,p(\varepsilon)),x_0,0).
Решение задач (5) представляется в явном виде (см. [1]):
Функции внутреннего переходного слоя более высоких порядков строятся аналогично функциям Q_1^{(\pm)} и имеют экспоненциальную оценку сверху, аналогичную (7).
Таким образом, формальное построение асимптотики решения с внутренним переходным слоем для задачи (1) завершено.
2.2. Асимптотика уровня слоя p(\varepsilon)
Остановимся подробно на определении коэффициентов в разложении для уровня перехода
Как показано ниже, каждому корню p_0 уравнения (10) соответствует решение задачи (1), обладающее внутренним переходным слоем в окрестности точки x_0, уровень которого в нулевом приближении по \varepsilon равен p_0. В случае выполнения условия 5а это решение оказывается локально асимптотически устойчивым по Ляпунову, а в случае выполнения условия 5б – неустойчивым. Случай \frac{d}{dp}\,K_1(p_0)=0 в данной работе не рассматривается.
Очевидно, задачи для определения коэффициентов p_i, i=1,2,\dots, имеют вид
Доказательство существования решения при выполнении условий 1–4, 5а проведем с помощью асимптотического метода дифференциальных неравенств [11], который заключается в построении верхнего и нижнего решений задачи (1) как модификаций асимптотического представления этого решения. Будем проводить эти построения аналогично тому, как это делалось в работе [6]. Тогда, опираясь на результаты [18], мы получаем, что из существования упорядоченной пары \alpha_{n+2}(x,\varepsilon), \beta_{n+2}(x,\varepsilon) (соответственно нижнего и верхнего решений) следует существование решения u_\varepsilon(x) задачи (1), заключенного между ними.
Введем функцию p_\delta(\varepsilon)=\hat p_{n+1}(\varepsilon)+\varepsilon^{n+1}\delta, где постоянную \delta>0 мы определим позднее. Функция \beta_{n+2}(x,\varepsilon) представляет собой модификацию формальной асимптотики:
Здесь U_{n+2,\delta}^{(\pm)}(x,\varepsilon) – суммы (11) (n+2)-го порядка, при построении которых в дифференциальных уравнениях, определяющих функции Q_0^{(\pm)}(\tau,p(\varepsilon)) и Q_1^{(\pm)}(\tau,p(\varepsilon)), функция p(\varepsilon) заменена на p_\delta(\varepsilon), а остальные члены асимптотики оставлены без изменения; \gamma>0 – постоянная, обеспечивающая выполнение дифференциального неравенства для нелинейного оператора задачи (1), функции \Pi^{(\pm)}_\beta строятся стандартным образом (см., например, [11]), чтобы выполнялось необходимое дифференциальное неравенство на границе, а функции {q^{(\pm)}}(\tau) вводятся для устранения невязок, вносимых величиной \gamma\varepsilon^{n+2}. Выражения для функций q^{(\pm)} получены в [5]:
Функция \alpha_{n+2}(x,\varepsilon) – нижнее решение задачи (1) – имеет аналогичную структуру, в ее построении используется функция p_{-\delta}(\varepsilon)=\hat p_{n+1}(\varepsilon)-\varepsilon^{n+1}\delta.
Отметим, что порядок модификации асимптотики решения на единицу превосходит порядок модификации уровня перехода. Эта характерная ситуация для сбалансированного случая (см., например, [7]).
Все условия для верхнего и нижнего решений проверяются стандартно, аналогично работам [6], [14]. Приведем здесь только проверку дифференциального неравенства на скачок производных верхнего и нижнего решений в точке x=x_0:
(знак следует из условия 2). При достаточно малых \varepsilon нужный знак скачка производной можно обеспечить, если выбрать постоянную \delta>0 так, чтобы она удовлетворяла неравенству
Это можно сделать в силу условия 5а. Для нижнего решения рассуждения полностью аналогичны.
Доказательство асимптотической устойчивости по Ляпунову стационарного решения с внутренним переходным слоем как решения соответствующей начально-краевой задачи и его локальной единственности проводится стандартно с использованием метода сжимающих барьеров (см., например, [14], [7]) и здесь не приводится.
Таким образом, доказана следующая
Теорема 1. При выполнении условий 1–4, 5а при достаточно малом \varepsilon>0 существует решение u_\varepsilon(x) задачи (1), для которого выполняется неравенство
где C – положительная константа. Кроме того, решение u_\varepsilon(x) асимптотически устойчиво по Ляпунову с областью устойчивости по крайней мере [\alpha_2(x,\varepsilon);\beta_2(x,\varepsilon)], и, следовательно, u_\varepsilon(x) – единственное решение задачи (1) в этой области.
3.2. Неустойчивые решения
Доказательство существования решения при выполненных условиях 1–4, 5б можно провести методом сшивания (см., например, [13], [12]).
Слева от переходного слоя рассматривается вспомогательная задача
Известно (см. [10]), что задачи (14) и (15) имеют соответственно решения u_\delta^{(-)} и u_\delta^{(+)}, обладающие пограничными слоями, для которых асимптотика
является равномерным приближением соответственно на отрезках [-1,x_0] и [x_0,1]. На основе результатов [10] с учетом построенных в разделе 2 асимптотик и формулы (13) имеем представление
В силу условия 5б при достаточно малых \varepsilon выражения (16) и (17) имеют разные знаки. Согласно рассуждениям, аналогичным рассуждениям работы [13], отсюда сразу же следует существование гладкого решения u_\varepsilon(x) задачи (1), причем для уровня p переходного слоя этого решения справедливо асимптотическое приближение p=p_n(\varepsilon)+O(\varepsilon^{n+1}).
Естественно, аналогичные рассуждения могли бы быть применены для обоснования асимптотики и при выполнении условия 5а. Доказательство неустойчивости такого решения проводится с помощью следствия теоремы Крейна–Рутмана. Известно (cм., например, [15]), что вопрос об устойчивости решения u_\varepsilon(x) может быть решен с помощью исследования следующей задачи на собственные значения:
Из известных результатов, основанных на теореме Крейна–Рутмана ([19], с. 20, теорема 7.3) и примененных к эллиптическому оператору (см., например, [20], глава 1), следует
Утверждение 1. Если для некоторой всюду положительной на (-1,1)\times[0,\varepsilon_0) функции h(x,\varepsilon) задача (19) имеет решение w(x,\varepsilon) такое, что хотя бы в одной точке x^*\in (-1,1) выполнено неравенство w(x^*,\varepsilon)<0, то главное собственное значение \mu задачи (18) положительно.
Пусть w(x,\varepsilon):=\beta_{n+2}(x,\varepsilon)-\alpha_{n+2}(x,\varepsilon), где \delta<0 выбрано достаточно большим по модулю. Нетрудно показать, что
для этого нужно почти дословно повторить выкладки из работы [2]. В силу условия 2L_\varepsilon(w)<0 при достаточно малом \varepsilon, если n\geqslant 0. В то же время при достаточно малых \varepsilon имеем
Чтобы утверждение 1 было справедливо, функция w должна быть дважды непрерывно дифференцируемой на интервале (-1,1) и удовлетворять однородным граничным условиям. Однако из построения следует, что на границе функция удовлетворяет неравенствам w'(-1,\varepsilon)>0, w'(1,\varepsilon)<0 и является негладкой в точке x=x_0. Эти незначительные трудности можно преодолеть, если действовать аналогично тому, как это было сделано в работе [21], применив одну итерацию из итерационного процесса, подобного описанному в [18].
Таким образом, справедлива
Теорема 2. При выполнении условий 1–4, 5б при достаточно малом \varepsilon>0 существует функция u_\varepsilon(x), являющаяся неустойчивым решением задачи (1), для которого выполняется неравенство
Из теорем 1, 2 следует, что в случае, когда у уравнения K_1(p)=0 имеется конечное число простых корней p_j на интервале (\phi^{(-)}(x_0),\phi^{(+)}(x_0)), у задачи (1) существует столько же соответствующих им решений c внутренним переходным слоем в \varepsilon-окрестности точки разрыва x_0, устойчивость которых определяется знаком производной \frac{dK}{dp}(p_j). Пример такой ситуации приведен в п. 4.1.
4. Примеры
4.1. Дрейфо-диффузионная модель полупроводника
Уравнения типа (1) находят применение в дрейфо-диффузионной модели полупроводника. В одномерном случае система уравнений, связывающая напряженность электрического поля E(x) и концентрацию электронов n(x), выглядит следующим образом (см. [17]):
Здесь D – коэффициент диффузии, который предполагается независящим от напряженности E (правомерность этого ограничения обоснована в [17]), V(E) – скорость дрейфа электронов, n_0(x) – равновесная концентрация электронов, q – абсолютная величина заряда электрона, \epsilon – диэлектрическая проницаемость полупроводника.
Исключая в системе (20)n(x) и интегрируя по координате x, приходим к уравнению
Нас интересует полупроводник, имеющий N-образную зависимость скорости дрейфа электронов V от поля E, а следовательно, N-образную вольт-амперную характеристику. Такие полупроводники обладают участком вольт-амперной характеристики с отрицательным дифференциальным сопротивлением, к ним относятся, например, GaAs, AlGaAs. Согласно [22] зависимость V(E) в случае двухдолинной модели имеет вид
где \mu_{e\Gamma}=5000\,\text{см}^2/\text{Вс}, \mu_{eL}=300\,\text{см}^2/\text{Вс} – значения подвижности электронов в центральной и боковой долинах, E_c=3\,\text{кВ}/\text{см} – значение поля насыщения, a=5.6, b=0.25 – материальные параметры GaAs.
Пусть L – длина образца, n_{00}, V_0 – характерные величины для n(x) и V(E) соответственно. Введем безразмерные функции: \tilde x=x/L, \widetilde E=E/E_c, \widetilde V(u)=V/V_0, \tilde j=4\pi \lambda jL/qn_{00}D, \tilde n(\tilde x)=n(x)/n_{00}, \tilde n_0(\tilde x)=n_0(x)/n_{00}. Параметр \tilde j можно задавать постоянным, подключая образец к источнику постоянного тока. В стационарном случае в безразмерных переменных уравнение (21) принимает вид
где \varepsilon^2=\epsilon E_c/Lqn_{00}, \lambda=D/LV_0 – безразмерные параметры. Для дальнейшего расчета были приняты следующие значения: \epsilon=13, q=4.8\cdot 10^{-10} Фр, L= 10^{-5} см, n_{00}=3.7\cdot 10^{19}\,\text{см}^{-3}, V_0=10^7 м/c, D=100\,\text{см}^2/\text{с}. При этих значениях \lambda=1, а \varepsilon=0.027 – достаточно малая величина. Можно сделать \varepsilon еще меньше, повысив характерную величину концентрации n_{00}.
Наконец, уравнение (23) принимает вид уравнения из задачи (1), если положить u=\widetilde E, a(u)=-\widetilde V(u), f(u,x):=-\tilde j+4\pi\tilde n_0'-4\pi\tilde n_0a(u) (здесь и далее опустим тильды над x и оставим в этом подразделе один аргумент у функции a и два – у функции f). Поставим для простоты на концах полупроводника граничные условия 2-го рода, так как они не влияют на положение внутреннего переходного слоя, являющегося главным объектом исследования настоящей работы.
Отметим, что пространственная неоднородность реактивного слагаемого f(u,x) определяется только неоднородностью функции n_0(x) равновесной концентрации электронов, которую называют также профилем легирования полупроводника. Хорошо известно, что неоднородности профиля легирования могут существенно влиять на распределение поля в образце (см., например, [17], [23]). Если функция n_0(x) является гладкой (пример такого профиля см. в [24]), то для приведенной дрейфо-диффузионной модели полупроводника имеют место результаты работы [1]. В работе [1] при условии гладкости реактивного слагаемого и других условиях на входные данные показаны существование и асимптотическая устойчивость по Ляпунову решения, обладающего внутренним переходным слоем, соответствующим обедненному электронами слою в полупроводнике. В частности, эти результаты будут применимы, если в условиях настоящей работы вместо условия 1 потребовать достаточной гладкости функций a и f. Местоположение точки перехода в этом случае заранее неизвестно, и ее координата определяется как корень x=x_0 уравнения I(x)=0.
Особенность случая разрыва производной \partial f/\partial x, рассмотренного в настоящей работе, заключается в том, что в малой окрестности точки разрыва x_0 могут возникать сразу несколько переходных слоев, что не наблюдалось при гладкой реакции. Более того, здесь наблюдается интересный с точки зрения динамики слоев случай односторонней блокировки слоя (см. ниже). На данный момент, по сведению автора, никем не было рассмотрено влияние недостаточной гладкости профиля легирования n_0(x) на распределение поля в образце. Однако известно, что с помощью неравномерного добавления доноров в полупроводник можно добиться практически любой зависимости n_0(x) [25]. Кроме того, примеси, как правило, распределяются в образце неравномерно, а потому важно учесть влияние неоднородностей указанного типа в модели полупроводника.
Выберем профиль легирования \tilde n_0(x) таким образом, чтобы функция \tilde n_0'(x) (а следовательно, и функция f(u,x)) была негладкой в точке x_0=0, например
Очевидно, условие 1 выполнено. Из вида функции f понятно, что существует такое значение тока \tilde j, что выполняются условия 2, 3. Это соответствует случаю, когда равны площади фигур, ограниченных графиками функции \widetilde V(\widetilde E) и горизонтальной прямой (\tilde j-4\pi\,\frac{\partial\tilde n_0}{\partial\tilde x}(0))/4\pi\tilde n_0(0) (см. рис. 1а). Численные расчеты показывают, что для этого нужно положить \tilde j=15.2.
Функция K_1(p) имеет ровно два корня на промежутке (\varphi^{(-)}(0),\varphi^{(+)}(0)): p_{01}=1.66, \frac{dK_1}{dp}(p_{01})>0 и p_{02}=4.49, \frac{dK_1}{dp}(p_{02})<0 (см. рис. 1б). Согласно теоремам 2, 1 корням p_{01} и p_{02} отвечают соответственно неустойчивое и устойчивое решения задачи (24) с внутренним переходным слоем вблизи точки x=0.
Как нетрудно видеть, функция I(x) пропорциональна энергии, необходимой для перевода участка полупроводника с координатой x из состояния с электрическим полем \widetilde E=\phi^{(-)}(x) в состояние с полем \widetilde E=\phi^{(+)}(x). По этой причине функцию I(x) назовем интегралом энергии. Она оказывается негладкой и неотрицательной (см. рис. 1в). Известно, что ее положительный знак определяет направление движения слоя слева направо [26], [8] и наоборот. Это полностью соответствует динамике подвижных слоев в окрестности точки x=0, задаваемой полученными выше устойчивым и неустойчивым решениями (см. рис. 2).
Рис. 2.Зависимость напряженности поля u=\widetilde E от координаты x (а). Сплошные кривые – асимптотика нулевого порядка для устойчивого решения задачи (24) (верхняя кривая), отвечающего уровню p_{01}=4.49, и неустойчивого решения (нижняя кривая), отвечающего уровню p_{02}=1.66. Тонкие кривые показывают динамику подвижных слоев и представляют собой численные решения начально-краевой задачи, соответствующей задаче (24), взятые через равные промежутки времени, с тремя различными начальными условиями, которые обозначены штриховыми кривыми. Пунктирные кривые – решения \phi^{(-)}(x) и \phi^{(+)}(x) вырожденного уравнения f(u,x)=0. Для каждого из решений, изображенных на рис. 2а, приведен график соответствующей этому решению функции концентрации электронов \tilde n(x) (б). Все обозначения, кроме пунктирных линий, те же, что на рис. 2а. Пунктирной линией здесь обозначена равновесная концентрация электронов \tilde n_{0}(x).
Как следует из второго уравнения системы (20), функция \tilde v=\frac{\partial \tilde u}{\partial\tau} имеет смысл избыточной концентрации электронов, показывающей отклонение их концентрации n(x) от равновесной концентрации n_0(x) в нулевом приближении по \varepsilon. Тогда из экспоненциального затухания \tilde v при \tau\to\pm\infty следует, что в нулевом приближении вдали от переходного слоя концентрация электронов стремится к равновесной, а вблизи точки x=0 возникает обедненный электронами слой (см. рис. 2б).
Таким образом, приведенный пример показывает, что в полупроводнике можно создать условия, при которых \varepsilon-окрестность точки разрыва оказывается доступна для подвижных слоев, обедненных электронами, приближающихся к ней слева, и заблокирована для таких слоев, находящихся справа от нее. Это дает возможность управления динамикой подвижных слоев в полупроводниках.
4.2. Случай тождественного баланса реакции относительно пространственной координаты
Условие 3 также выполняется, причем I(x)\equiv 0, x\in[-0.5,0.5]. Такой случай называется случаем тождественного баланса реакции относительно пространственной координаты x.
Подробнее остановимся на проверке условий 4, 5а. Функции K_1(p) и K'_1(p) принимают вид
В силу (26)K'_1(p)<0 при любых p\in(-1,1). Таким образом, если у уравнения K_1(p)=0 есть решение p=p_0 на промежутке (-1,1), то оно единственно на этом промежутке.
Положим A(x)=0.2, c^{(+)}(x)=1+x, c^{(-)}(x)=1, тогда вычисления дают p_0=0.13 (см. рис. 3а). Соответствующее устойчивое решение задачи (25) с динамикой подвижного слоя в его окрестности показано на рис. 3б.
Рис. 3.Зависимость K_1 от p для задачи (25) (а). Сплошная кривая – асимптотика нулевого порядка для задачи (25) (б). Тонкие кривые показывают динамику подвижных слоев и представляют собой численные решения начально-краевой задачи, соответствующей задаче (25), взятые через равные промежутки времени, с начальным условием, которое обозначено штриховой кривой. Пунктирные кривые – решения \phi^{(-)}(x)=-1 и \phi^{(+)}(x)=1 вырожденного уравнения F(u,x)=0.
Благодарности
Автор выражает благодарность профессору Н. Н. Нефедову и профессору Д. А. Бандурину за плодотворные обсуждения.
Конфликт интересов
Автор заявляет, что у него нет конфликта интересов.
Список литературы
1.
А. Б. Васильева, В. Ф. Бутузов, Н. Н. Нефедов, “Контрастные структуры в сингулярно возмущенных задачах”, Фундамент. и прикл. матем., 4:3 (1998), 799–851
2.
N. N. Nefedov, E. I. Nikulin, “Existence and stability of periodic contrast structures in the reaction-advection-diffusion problem”, Russ. J. Math. Phys., 22:2 (2015), 215–226
3.
N. N. Nefedov, L. Recke, K. R. Schneider, “Existence and asymptotic stability of periodic solutions with an interior layer of reaction-advection-diffusion equations”, J. Math. Anal. Appl., 405:1 (2013), 90–103
4.
Н. Н. Нефедов, Е. И. Никулин, “Существование и асимптотическая устойчивость периодических двумерных контрастных структур в задаче со слабой линейной адвекцией”, Матем. заметки, 106:5 (2019), 708–722
5.
N. N. Nefedov, E. I. Nikulin, A. O. Orlov, “Existence of contrast structures in a problem with discontinuous reaction and advection”, Russ. J. Math. Phys., 29:2 (2022), 214–224
6.
N. N. Nefedov, E. I. Nikulin, A. O. Orlov, “Contrast structures in the reaction-diffusion-advection problem in the case of a weak reaction discontinuity”, Russ. J. Math. Phys., 29:1 (2022), 81–90
7.
Н. Н. Нефедов, Е. И. Никулин, “Существование и устойчивость периодических контрастных структур в задаче реакция-адвекция-диффузия в случае сбалансированной нелинейности”, Дифференц. уравнения, 53:4 (2017), 524–537
8.
Н. Н. Нефедов, Е. И. Никулин, А. О. Орлов, “Движение фронта в задаче со слабой адвекцией в случае непрерывного источника и источника модульного типа”, Дифференц. уравнения, 58:6 (2022), 763–776
9.
Н. Т. Левашова, Н. Н. Нефедов, А. О. Орлов, “Стационарное уравнение реакции–диффузии с разрывным реактивным членом”, Ж. вычисл. матем. и матем. физ., 57:5 (2017), 854–866
10.
А. Б. Васильева, В. Ф. Бутузов, Асимптотические методы в теории сингулярных возмущений, Высшая школа, М., 1990
11.
Н. Н. Нефедов, “Метод дифференциальных неравенств для некоторых классов нелинейных сингулярно возмущенных задач с внутренними слоями”, Дифференц. уравнения, 31:7 (1995), 1142–1149
12.
А. Б. Васильева, М. А. Давыдова, “О контрастной структуре типа ступеньки для одного класса нелинейных сингулярно возмущенных уравнений второго порядка”, Ж. вычисл. матем. и матем. физ., 38:6 (1998), 938–947
13.
Я Фэй Пан, Мин Кан Ни, М. А. Давыдова, “Контрастные структуры в задачах для стационарного уравнения реакция–диффузия–адвекция с разрывной нелинейностью”, Матем. заметки, 104:5 (2018), 755–766
14.
В. Т. Волков, Н. Н. Нефедов, “Развитие асимптотического метода дифференциальных неравенств для исследования периодических контрастных структур в уравнениях реакция-диффузия”, Ж. вычисл. матем. и матем. физ., 46:4 (2006), 615–623
15.
N. Nefedov, “Comparison principle for reaction-diffusion-advection problems with boundary and internal layers”, Numerical Analysis and Its Applications, Lecture Notes in Computer Science, 8236, eds. I. Dimov, I. Faragó, L. Vulkov, Springer, Berlin, Heidelberg, 2013, 62–72
16.
Н. Н. Нефедов, Е. И. Никулин, “О неустойчивых решениях с немонотонным пограничным слоем в двумерной задаче реакция-диффузия”, Матем. заметки, 110:6 (2021), 899–910
17.
М. Е. Левинтштейн, Ю. К. Пожела, М. С. Шур, Эффект Ганна, Сов. радио, M., 1975
18.
C. V. Pao, Nonlinear Parabolic and Elliptic Equations, Springer, New York, 1992
19.
П. Хесс, Периодическо-параболические граничные задачи и положительность, Мир, М., 2001
20.
Y. Du, Order Structure and Topological Methods in Nonlinear Partial Differential Equations, v. 1, Series in Partial Differential Equations and Applications, 2, Maximum Principles and Applications, World Sci., Singapore, 2006
21.
Н. Н. Нефедов, Е. И. Никулин, “О периодических решениях с пограничным слоем в задаче реакция диффузия с сингулярно возмущенными граничными условиями третьего рода”, Дифференц. уравнения, 56:12 (2020), 1641–1650
22.
B. Jabloński, E. Weinert-Ra̧czka, “The influence of saturation of electron drift velocity on photorefractive effect in GaAs/AlGaAs quantum wells structures”, Optics \& Laser Technology, 134:2 (2021), 106617, 7 pp.
23.
P. Farrell, D. Peschka, “Nonlinear diffusion, boundary layers and nonsmoothness: Analysis of challenges in drift-diffusion semiconductor simulations”, Comput. Math. Appl., 78:12 (2019), 3731–3747
24.
M. S. Shur, L. F. Eastman, “I–V characteristics of GaAs MESFET with nonuniform doping profile”, IEEE Trans. Electron Devices, 27:2 (1980), 455–461
25.
К. Зеегер, Физика полупроводников, Мир, М., 1977
26.
Ю. В. Божевольнов, Н. Н. Нефёдов, “Движение фронта в параболической задаче реакция-диффузия”, Ж. вычисл. матем. и матем. физ., 50:2 (2010), 276–285
Образец цитирования:
Е. И. Никулин, “Контрастные структуры в задаче реакция-адвекция-диффузия,
возникающей в дрейфо-диффузионной модели полупроводника, в случае
негладкой реакции”, ТМФ, 215:3 (2023), 360–376; Theoret. and Math. Phys., 215:3 (2023), 769–783
E. I. Nikulin, V. T. Volkov, D. A. Karmanov, “Internal Transition Layer Structure
in the Reaction–Diffusion Problem for the Case
of a Balanced Reaction with a Weak Discontinuity”, Diff Equat, 60:1 (2024), 65
Е. И. Никулин, В. Т. Волков, А. Г. Никитин, “О контрастных структурах в задаче теории эффекта бареттирования”, ТМФ, 220:1 (2024), 154–163; E. I. Nikulin, V. T. Volkov, A. G. Nikitin, “On contrast structures in a problem of the baretting effect
theory”, Theoret. and Math. Phys., 220:1 (2024), 1193–1200
Е. И Никулин, В. Т Волков, Д. А Карманов, “STRUKTURA VNUTRENNEGO PEREKhODNOGO SLOYa V ZADAChE REAKTsIYa–DIFFUZIYa V SLUChAE SBALANSIROVANNOY REAKTsII SO SLABYM RAZRYVOM”, Differencialʹnye uravneniâ, 60:1 (2024), 64
E. I. Nikulin, A. V. Karamyshev, “Weak Inner Layer in the Reaction-Diffusion-Advection Problem in the Case of a Reaction Discontinuity”, Moscow Univ. Phys., 79:5 (2024), 560