Аннотация:
Методами эмиссионной спектроскопии с временным разрешением исследовано свечение факела углеродной плазмы, возникающей при абляции графита в вакууме излучением XeCl-лазера. Показано, что в процессе свечения плазмы ее спектр резко изменяется, причем при плотностях энергии лазерного излучения Φ = 4 — 5 Дж/см2 основной вклад в свечение дают ионы С+ и радикалы С2. Кинетика свечения зависит от условий возбуждения, а также различна для разных участков плазменного факела. Разработан метод компьютерного моделирования спектров C2, позволяющий по измеренным спектрам люминесценции радикалов C2 определять их колебательные и вращательные температуры (Trot и Tvib) в плазме, а также эволюцию этих температур во времени. Обнаружено, что за время свечения характерные температуры радикалов С2 меняются в широких пределах: Tvib = 2500 — 12000 K, Trot = 1500 — 10000 K.
Образец цитирования:
А. В. Демьяненко, В. С. Летохов, А. А. Пурецкий, Е. А. Рябов, “Эмиссионная спектроскопия углеродной плазмы при лазерной абляции графита. 1. Абляция излучением XeCl-лазера”, Квантовая электроника, 24:11 (1997), 1012–1016 [Quantum Electron., 27:11 (1997), 983–987]
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/qe1089
https://www.mathnet.ru/rus/qe/v24/i11/p1012
Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
В. П. Вейко, С. А. Волков, Р. А. Заколдаев, М. М. Сергеев, А. А. Самохвалов, Г. К. Костюк, К. А. Миляев, Квантовая электроника, 47:9 (2017), 842–848; Quantum Electron., 47:9 (2017), 842–848
J. J. Camacho, L. Díaz, M. Santos, L. J. Juan, J. M. L. Poyato, Journal of Applied Physics, 106:3 (2009)
J J Camacho, L Díaz, M Santos, D Reyman, J M L Poyato, J. Phys. D: Appl. Phys., 41:10 (2008), 105201
M. Theobald, P. Baclet, O. Legaie., J. Durand., Fusion Technology, 38:1 (2000), 62