Аннотация:
В результате оптимизации технологии изготовления активных элементов лазеров на кристаллах LiF с F−2F−2-центрами окраски (ЦО) получены высокие параметры широкополосной генерации света F−2F−2-ЦО в неселективном резонаторе при накачке лазером на YAG : Nd3+3+ (λн = 1,064 мкм). КПД по накачке составил 25 %, по поглощенной энергии – 32 %, дифференциальный КПД 50 %. Полоса генерации имела максимум на λ = 1,17 мкм при полуширине Δλ>1000 см−1. Получено вынужденное излучение F−2-ЦО в режиме свободной генерации лазера накачки (гладкий импульс) с КПД по накачке 0,5 %. Реализован эффективный лазер на LiF : F−2 со спектрально узкой (<0,05 нм) и плавно перестраиваемой в диапазоне 1,09–1,23 мкм линией излучения. КПД в максимуме перестроечной кривой
(λ = 1,17 мкм) составил 10 % по падающей на кристалл энергии и 12 % по поглощенной энергии при дифференциальном КПД 23 %. Рабочая температура активных элементов лазера комнатная, частота повторения импульсов генерации до 100 Гц.
Образец цитирования:
Т. Т. Басиев, Ю. К. Воронько, С. Б. Миров, В. В. Осико, A. М. Прохоров, М. С. Соскин, В. Б. Тараненко, “Эффективные перестраиваемые лазеры на основе кристаллов LiF:F−2”, Квантовая электроника, 9:8 (1982), 1741–1743 [Sov J Quantum Electron, 12:8 (1982), 1125–1126]
T. T. Basiev, B. I. Denker, S. B. Mirov, V. V. Osiko, V. G. Park, A. M. Prokhorov, I. Kertesz, N. Kroo, K. Ferencz, Advanced Solid State Lasers, 1989, HH5
T.T. Basiev, S.B. Mirov, V.V. Osiko, IEEE J. Quantum Electron., 24:6 (1988), 1052