Аннотация:
Теоретически исследовано воздействие излучения волоконного иттербиевого лазера с λ = 1.07 мкм на прессованные микропорошки из прозрачных оксидов и фторидов (CaF2, Y2O3, Al2O3, YSZ и др.), имеющих низкие показатели поглощения (10-3–10-4 см-1). Путём численного моделирования установлено, что рассеяние излучения в среде из частиц диаметром 0.5–4.6 мкм приводит к его концентрированию в локальных участках среды до уровня интенсивности, превышающей интенсивность падающего излучения (0.46 МВт/см2) во много раз. Показано, что с ростом показателя преломления n материала частиц с 1.38 (MgF2) до 2.12 (YSZ) интенсивность излучения в области самого сильного локального максимума увеличивается с 3.8 до 31 МВт/см2. По нашему мнению, данный фактор может оказывать решающее влияние на возможность достижения абляции такой среды с помощью излучения с интенсивностью не более 1МВт/см2. Это предположение было проверено экспериментально на примере получения нанопорошка из CaF2 (n = 1.43) и 1% Nd : Y2O3 (n = 1.91) путём испарения прессованной мишени с пористостью 50% непрерывным излучением волоконного иттербиевого лазера с мощностью 600 Вт и интенсивностью 0.4 МВт/см2. Внутри мишени из CaF2 интенсивность рассеянного излучения была меньше порога оптического разрушения, и мишень не испарялась. При тех же условиях мишень из более тугоплавкого 1% Nd : Y2O3 хорошо испарялась, а производительность получения нанопорошка составляла 23 г/ч.
Образец цитирования:
В. В. Осипов, В. В. Лисенков, В. В. Платонов, Е. В. Тихонов, “Процессы взаимодействия лазерного излучения с пористыми прозрачными материалами при их абляции”, Квантовая электроника, 48:3 (2018), 235–243 [Quantum Electron., 48:3 (2018), 235–243]
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/qe16786
https://www.mathnet.ru/rus/qe/v48/i3/p235
Эта публикация цитируется в следующих 18 статьяx:
Nicolas Bourdineaud, Guillaume Duchateau, Rodolphe Turpault, Phys. Rev. E, 111:3 (2025)
S. Yu Sokovnin, V.G. Il'ves, M.A. Uimin, Ceramics International, 50:9 (2024), 15790
Vladimir V. Osipov, Egor V. Tikhonov, Vyacheslav V. Platonov, Vasiliy V. Lisenkov, Optics Communications, 2024, 131276
В. В. Лисенков, В. В. Осипов, В. В. Платонов, Е. В. Тихонов, Квантовая электроника, 54:9 (2024), 575–582
В. В. Осипов, В. В. Платонов, А. М. Мурзакаев, Е. В. Тихонов, А. И. Медведев, Квантовая электроника, 52:8 (2022), 739–748; Bull. Lebedev Physics Institute, 49:suppl. 1 (2022), S68–S81
V. V. Osipov, V. V. Platonov, V. V. Lisenkov, E. V. Tikhonov, Inorg. Mater. Appl. Res., 13:3 (2022), 674
V.V. Osipov, V. V. Platonov, E.V. Tikhonov, V.V. Lisenkov, 2022 International Conference Laser Optics (ICLO), 2022, 1
E A Korsakova, V V Lisenkov, L V Zhukova, A N Orlov, A S Korsakov, V V Osipov, A E Lvov, V V Platonov, D D Salimgareev, J. Phys.: Conf. Ser., 2064:1 (2021), 012100
R. S. Pavlov, J. Guimbao, F. Ramos, Opt. Laser Technol., 121 (2020), 105759
Vladimir V. Osipov, Vasily V. Lisenkov, Vyacheslav V. Platonov, Egor V. Tikhonov, 2020 21st International Conference of Young Specialists on Micro/Nanotechnologies and Electron Devices (EDM), 2020, 76
Vladimir Oleshko, Aleksey Yakovlev, Vladimir Tzipilev, Nikolay Alekseev, 2020 7th International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE), 2020, 911
V. V. Osipov, V. I. Solomonov, V. V. Platonov, E. V. Tikhonov, A. I. Medvedev, Appl. Phys. A-Mater. Sci. Process., 125:1 (2019), 48
V. P. Tsipilev, V. I. Oleshko, A. N. Yakovlev, N. A. Alekseev, O. V. Nozdrina, M. A. Mazur, Russ. Phys. J., 62:5 (2019), 906–914
V. G. Il'ves, S. Yu. Sokovnin, M. G. Zuev, M. A. Uimin, M. Rahn, J. Kozlova, V. Sammelselg, Phys. Solid State, 61:11 (2019), 2200–2217
S. Yu. Sokovnin, V. G. Il'ves, M. A. Uimin, 14Th International Conference on Films and Coatings, Journal of Physics Conference Series, 1281, IOP Publishing Ltd, 2019, 012079
S Yu Sokovnin, V G Il'ves, M G Zuev, M A Uimin, J. Phys.: Conf. Ser., 1115 (2018), 032092