Аннотация:
Экспериментально исследованы особенности абляции тонкой серебряной пленки со слоем высокопрозрачного фоторезиста толщиной 1 мкм и без него под действием одиночных жесткосфокусированных фемтосекундных лазерных импульсов излучения видимого (515 нм) диапазона. Обнаружены и обсуждаются интерференционные эффекты внутренней модификации слоя фоторезиста, его откольной абляции с поверхности пленки, а также формирования сквозных полых субмикронных каналов в резисте без его откола, но с абляцией расположенной под ним серебряной пленки.
Ключевые слова:
тонкая серебряная пленка с микронным слоем прозрачного фоторезиста, фемтосекундные лазерные импульсы видимого диапазона, жесткая фокусировка, субмикро- и микроабляция.
Образец цитирования:
Д. А. Заярный, А. А. Ионин, С. И. Кудряшов, С. В. Макаров, А. А. Руденко, Е. А. Дроздова, С. Б. Одиноков, “Особенности одноимпульсной фемтосекундной лазерной микро- и субмикромасштабной абляции тонкой серебряной пленки, покрытой микронным слоем фоторезиста”, Квантовая электроника, 45:5 (2015), 462–466 [Quantum Electron., 45:5 (2015), 462–466]