Квантовая электроника, 2014, том 44, номер 9, страницы 852–858(Mi qe16034)
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Наноструктуры
Cферические наночастицы золота и микрочастицы Au / SiO2 (оболочка/ядро) в условиях интенсивного фемтосекундного лазерного возбуждения: динамика релаксации наночастиц золота и наноструктурирование боросиликатного стекла с помощью микрочастиц Au / SiO2
Аннотация:
Сообщается об эффекте наноструктурирования поверхности боросиликатного стекла, покрытого слоем воды, и формировании лунок с диаметром ~150 нм с помощью микрочастиц Au/SiO2 (оболочка/ядро) при возбуждении импульсами длительностью 50 фс (λ = 780 нм) в оптической схеме инвертированного микроскопа с объективом 100×, NA = 1.4. Дано сравнение порогов образования отверстий в стекле при использовании Au/SiO2 и непокрытых SiO2-микрочастиц. Порог с использованием Au/SiO2 составил 0.7 Дж/см2, а для микрочастиц SiO2 порог был равен 2.9 Дж/см2, что совпадает со значением порога наноструктурирования сфокусированным фемтосекундным импульсом без микрочастиц – 3 Дж/см2. Методом фемтосекундной спектроскопии возбуждение – зондирование выявлена динамика релаксации поглощенной Au-наночастицей энергии лазерного импульса и диссипации энергии в окружающую среду. Порог образования кавитационного пузыря в воде с Au/SiO2 составил 0.06 мДж/см2, что в 30 раз ниже порога образования пузыря с непокрытыми микрочастицами SiO2.
Образец цитирования:
А. М. Шахов, А. А. Астафьев, Н. Н. Денисов, Ф. Е. Гостев, И. В. Шелаев, А. Н. Титов, В. А. Надточенко, “Cферические наночастицы золота и микрочастицы Au / SiO2 (оболочка/ядро) в условиях интенсивного фемтосекундного лазерного возбуждения: динамика релаксации наночастиц золота и наноструктурирование боросиликатного стекла с помощью микрочастиц Au / SiO2”, Квантовая электроника, 44:9 (2014), 852–858 [Quantum Electron., 44:9 (2014), 852–858]
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/qe16034
https://www.mathnet.ru/rus/qe/v44/i9/p852
Эта публикация цитируется в следующих 2 статьяx:
А. М. Шахов, А. А. Астафьев, В. А. Надточенко, Письма в ЖЭТФ, 109:5 (2019), 294–300; A. M. Shakhov, A. A. Astafiev, V. A. Nadtochenko, JETP Letters, 109:5 (2019), 292–297
M. Yu. Tsvetkov, V. I. Yusupov, P. S. Timashev, K. M. Golant, N. V. Minaev, V. N. Bagratashvili, Nanotechnol. Russ., 12:1-2 (2017), 86–97