Прикладная механика и техническая физика
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


Прикл. мех. техн. физ.:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Прикладная механика и техническая физика, 2019, том 60, выпуск 6, страницы 118–129
DOI: https://doi.org/10.15372/PMTF20190613 (Mi pmtf379) 		 
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

Газоструйное осаждение алмаза на стальной поверхности, покрытой слоем WC–Cо или Mо

А. К. Ребровa, И. С. Батраевb, Т. Т. Бъядовскийa, Е. В. Гладкихc, А. С. Усейновc, М. Н. Хомяковd

a Институт теплофизики им. С. С. Кутателадзе СО РАН, 630090 Новосибирск, Россия
b Институт гидродинамики им. М. А. Лаврентьева СО РАН, 630090 Новосибирск, Россия
c Технологический институт сверхтвердых и новых углеродных материалов, 142190 Троицк, Россия
d Институт лазерной физики СО РАН, 630090 Новосибирск, Россия
PDF полного текста (1141 kB) Список цитирования (1)
DOI: https://doi.org/10.15372/PMTF20190613
Аннотация: Представлены результаты исследования процесса роста алмазных структур на стальных образцах с использованием промежуточных слоев из молибдена и карбида вольфрама, цементированного кобальтом. Промежуточные слои наносились с помощью метода детонационного распыления. Последующее осаждение алмазных пленок на покрытые стальные образцы осуществлялось с использованием газоструйного метода и специального термокаталитического реактора с протяженными активирующими поверхностями.
Для интенсификации процесса зародышеобразования на поверхности промежуточных слоев проводился предварительный засев образцов в коллоидном растворе, содержащем наноалмазы. Для получения информации о фазовом и структурном составе полученных образцов и о морфологии поверхности пленок использовались сканирующая электронная микроскопия, рамановская спектроскопия и рентгеновская дифракционная спектроскопия. Трибологические свойства изучались c помощью нанотвердомера, а также методом вдавливания по Роквеллу.
Ключевые слова: химическое газофазное осаждение, алмазное покрытие, детонационное напыление, промежуточные слои, механические измерения.
Поступила в редакцию: 27.05.2019
Исправленный вариант: 27.05.2019
Принята в печать: 27.05.2019
Англоязычная версия:
Journal of Applied Mechanics and Technical Physics, 2019, Volume 60, Issue 6, Pages 1077–1087
DOI: https://doi.org/10.1134/S0021894419060130
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
УДК: 53.043; 539.5
Образец цитирования: А. К. Ребров, И. С. Батраев, Т. Т. Бъядовский, Е. В. Гладких, А. С. Усейнов, М. Н. Хомяков, “Газоструйное осаждение алмаза на стальной поверхности, покрытой слоем WC–Cо или Mо”, Прикл. мех. техн. физ., 60:6 (2019), 118–129; J. Appl. Mech. Tech. Phys., 60:6 (2019), 1077–1087
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{RebBatBya19}
\by А.~К.~Ребров, И.~С.~Батраев, Т.~Т.~Бъядовский, Е.~В.~Гладких, А.~С.~Усейнов, М.~Н.~Хомяков
\paper Газоструйное осаждение алмаза на стальной поверхности, покрытой слоем WC--Cо или Mо
\jour Прикл. мех. техн. физ.
\yr 2019
\vol 60
\issue 6
\pages 118--129
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/pmtf379}
\crossref{https://doi.org/10.15372/PMTF20190613}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=41444470}
\transl
\jour J. Appl. Mech. Tech. Phys.
\yr 2019
\vol 60
\issue 6
\pages 1077--1087
\crossref{https://doi.org/10.1134/S0021894419060130}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/pmtf379
  • https://www.mathnet.ru/rus/pmtf/v60/i6/p118
    • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    1. Е. А. Баранов, А. О. Замчий, Н. А. Лунев, И. Е. Меркулова, В. А. Володин, М. Р. Шарафутдинов, А. А. Шаповалова, “Высокотемпературный отжиг тонких пленок субоксида кремния, полученных методом газоструйного химического осаждения с активацией электронно-пучковой плазмой”, Прикл. мех. техн. физ., 63:5 (2022), 33–41  mathnet  crossref  elib; E. A. Baranov, A. O. Zamchiy, N. A. Lunev, I. E. Merkulova, V. A. Volodin, M. R. Sharafutdinov, A. A. Shapovalova, “High-temperature annealing of thin silicon suboxide films produced by the method of gas-jet chemical deposition with activation by electron-beam plasma”, J. Appl. Mech. Tech. Phys., 63:5 (2022), 757–764  crossref
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Прикладная механика и техническая физика Прикладная механика и техническая физика
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:62
    PDF полного текста:18
    Первая страница:1
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025