|
Формирование фазы Nb3Sn путем обработки системы Nb+Sn импульсным электронным пучком
Ю. Н. Юрьевa, А. В. Юрьеваa, А. И. Савельевa, М. С. Воробьевb, П. В. Москвинb a Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Томск, Россия
b Институт сильноточной электроники СО РАН, Томск, Россия
Аннотация:
Исследована возможность обработки пленок Nb–Sn, осажденных на медную подложку методом магнетронного распыления, импульсным электронным пучком в источнике с плазменным катодом. Электронно-пучковая обработка покрытий приводит к формированию фазы Nb3Sn. Пленки облучались с разной плотностью энергии пучка и длительностью импульса. Исследованы морфология поверхности и фазовый состав облученных пленок.
Ключевые слова:
магнетронное распыление, пленки Nb3Sn, электронный пучок, плазменный катод, электронно-пучковая обработка.
Поступила в редакцию: 27.09.2023 Исправленный вариант: 09.11.2023 Принята в печать: 09.11.2023
Образец цитирования:
Ю. Н. Юрьев, А. В. Юрьева, А. И. Савельев, М. С. Воробьев, П. В. Москвин, “Формирование фазы Nb3Sn путем обработки системы Nb+Sn импульсным электронным пучком”, Письма в ЖТФ, 50:3 (2024), 40–43
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6603 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v50/i3/p40
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 12 | PDF полного текста: | 4 |
|