|
Физика и техника полупроводников, 1989, том 23, выпуск 7, страницы 1156–1159
(Mi phts3427)
|
|
|
|
Край оптического поглощения «чистых»
эпитаксиальных слоев InP
М. А. Абдуллаев, С. И. Кохановский, Ю. М. Макушенко, Р. П. Сейсян
Аннотация:
На краю поглощения «чистых»
эпитаксиальных слоев InP впервые наблюдалась при 2 K экситонная структура,
включающая в себя помимо основного (${n_{0}=1}$) и возбужденные
(${n_{0}=2,\,3}$) состояния экситона, а также максимумы
поглощения ЭПК «нейтральный донор$-$экситон» ($D^{0},\,X$).
Основное состояние экситона удается наблюдать и при комнатной
температуре, несмотря на малость энергии связи ${R^{*}\ll kT}$.
Выполненный расчет $R^{*}$ при учете вырождения и гофрировки
валентной зоны согласуется с экспериментом при ${R^{*}=5.0\pm0.1}$ мэВ
и ${\varepsilon_{g}^{0}=1424.3\pm0.1}$ мэВ. Экспериментально измерена
зависимость полуширины основного состояния $\Gamma$ от температуры,
которая складывается из членов: остаточного $\Gamma_{0}(N_{I}$), не
зависящего от $T$ и $\Gamma_{\text{ф}}(T)$, растущего с $T$
пропорционально функции заполнения состояний $LO$-фононов; при этом
коэффициент пропорциональности $A_{\text{ф}}$ на порядок превосходит
$A_{\text{ф}}^{e}$, даваемый фрлиховской константой
электрон-фононного взаимодействия.
Образец цитирования:
М. А. Абдуллаев, С. И. Кохановский, Ю. М. Макушенко, Р. П. Сейсян, “Край оптического поглощения «чистых»
эпитаксиальных слоев InP”, Физика и техника полупроводников, 23:7 (1989), 1156–1159
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts3427 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v23/i7/p1156
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 69 | PDF полного текста: | 33 |
|