Loading [MathJax]/jax/output/CommonHTML/fonts/TeX/fontdata.js
Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Физика и техника полупроводников, 1989, том 23, выпуск 5, страницы 919–921 (Mi phts3379)  
Краткие сообщения

Влияние кислорода на образование акцепторных уровней никеля в n-Si

Р. Ф. Витман, Н. Б. Гусева, А. А. Лебедев, Э. С. Таптыгов
PDF полного текста (469 kB)
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Р. Ф. Витман, Н. Б. Гусева, А. А. Лебедев, Э. С. Таптыгов, “Влияние кислорода на образование акцепторных уровней никеля в n-Si”, Физика и техника полупроводников, 23:5 (1989), 919–921
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{Leb89}
\by Р.~Ф.~Витман, Н.~Б.~Гусева, А.~А.~Лебедев, Э.~С.~Таптыгов
\paper Влияние кислорода на образование акцепторных уровней никеля в~$n$-Si
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 1989
\vol 23
\issue 5
\pages 919--921
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts3379}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts3379
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v23/i5/p919
    • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:53
    PDF полного текста:23
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025