|
Физика и техника полупроводников, 1988, том 22, выпуск 2, страницы 298–300
(Mi phts2723)
|
|
|
|
Электрические характеристики эпитаксиальных
p+−n−n+-структур на основе карбида кремния политипа 6H
М. М. Аникин, А. А. Лебедев, И. В. Попов, В. П. Растегаев, А. М. Стрельчук, А. Л. Сыркин, Ю. М. Таиров, В. Ф. Цветков, В. Е. Челноков
Аннотация:
Изготовлены эпитаксиальные p+−n−n+-структуры на основе
карбида кремния политипа 6H с напряжением пробоя свыше 300 В
и на прямые токи ∼1 А (j∼200А/см2) при
напряжениях ∼4 В, работоспособные до температур
∼800 K. Обратные токи при температуре 720 K
и напряжении ∼300 В составляют ∼10−6 А. Эффективное время жизни неосновных носителей в слое объемного
заряда при высоких температурах в предположении модели Шокли–Нойса–Саа
составляет ∼10 нс.
Образец цитирования:
М. М. Аникин, А. А. Лебедев, И. В. Попов, В. П. Растегаев, А. М. Стрельчук, А. Л. Сыркин, Ю. М. Таиров, В. Ф. Цветков, В. Е. Челноков, “Электрические характеристики эпитаксиальных
p+−n−n+-структур на основе карбида кремния политипа 6H”, Физика и техника полупроводников, 22:2 (1988), 298–300
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts2723 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v22/i2/p298
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 76 | PDF полного текста: | 29 |
|