|
Физика и техника полупроводников, 1986, том 20, выпуск 5, страницы 844–848
(Mi phts201)
|
|
|
|
Исследование вольтамперных характеристик диодных структур
на основе карбида кремния
М. М. Аникин, А. А. Лебедев, И. В. Попов, А. М. Стрельчук, А. В. Суворов, А. Л. Сыркин, В. Е. Челноков Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР, г. Ленинград
Аннотация:
Исследовались вольтамперные характеристики (ВАХ) диодных
структур на основе SiC в интервале температур 293÷800 K.
Установлено, что обратные токи при высоких температурах
обусловлены генерацией носителей в области объемного заряда.
Прямые ВАХ описывались экспоненциальной зависимостью и состояли из
двух участков. Показано, что при высоких температурах протекание
прямого тока на первом участке ВАХ описывается теорией Шокли–Нойса–Саа.
Протекание прямого тока на втором участке ВАХ можно объяснить
механизмом рекомбинации носителей через многоуровневый центр в слое
объемного заряда.
Поступила в редакцию: 10.09.1985 Принята в печать: 26.11.1985
Образец цитирования:
М. М. Аникин, А. А. Лебедев, И. В. Попов, А. М. Стрельчук, А. В. Суворов, А. Л. Сыркин, В. Е. Челноков, “Исследование вольтамперных характеристик диодных структур
на основе карбида кремния”, Физика и техника полупроводников, 20:5 (1986), 844–848
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts201 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v20/i5/p844
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 63 | PDF полного текста: | 29 |
|