Loading [MathJax]/jax/output/SVG/config.js
Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 1984, том 18, выпуск 7, страницы 1306–1307 (Mi phts1861)  

Краткие сообщения

Влияние высокого давления на состояние оптически активного кислорода в кремнии при термообработке

Ю. Ф. Шульпяков, Р. Ф. Витман, А. А. Лебедев, А. Н. Дремин
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Ю. Ф. Шульпяков, Р. Ф. Витман, А. А. Лебедев, А. Н. Дремин, “Влияние высокого давления на состояние оптически активного кислорода в кремнии при термообработке”, Физика и техника полупроводников, 18:7 (1984), 1306–1307
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{Leb84}
\by Ю.~Ф.~Шульпяков, Р.~Ф.~Витман, А.~А.~Лебедев, А.~Н.~Дремин
\paper Влияние высокого давления на состояние оптически активного кислорода
в~кремнии при термообработке
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 1984
\vol 18
\issue 7
\pages 1306--1307
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts1861}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts1861
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v18/i7/p1306
  • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:71
    PDF полного текста:30
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025