Аннотация:
Впервые экспериментально продемонстрирована возможность получения силицена на модифицированных электронным облучением подложках CaF2/Si(111). Показано, что формирующиеся под электронным пучком участки планарной поверхности CaSi2 с гексагональной упаковкой могут быть использованы как естественная основа для последующего роста силицена. На таких поверхностях проведено осаждение кремния и методами атомно-силовой микроскопии и спектроскопии комбинационного рассеяния света получено подтверждение формирования островков силицена.
Работа выполнена в рамках государственного задания Министерства науки и высшего образования Российской Федерации (тема # FWGW-2022-0011 Физические явления в квантовых структурах для компонент наноэлектроники, нанофотоники и спинтроники).
Поступила в редакцию: 06.03.2024 Исправленный вариант: 30.03.2024 Принята в печать: 01.04.2024
Образец цитирования:
А. Ф. Зиновьева, В. А. Зиновьев, А. В. Кацюба, В. А. Володин, В. И. Муратов, А. В. Двуреченский, “Рост силицена методом молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках CaF2/Si(111), модифицированных электронным облучением”, Письма в ЖЭТФ, 119:9 (2024), 692–696; JETP Letters, 119:9 (2024), 703–707